La nanolitografía es la rama de la nanotecnología que se ocupa del estudio y la aplicación de la fabricación de estructuras a escala nanométrica, es decir, patrones con al menos una dimensión lateral entre 1 y 100 nm.
Los diferentes enfoques se pueden clasificar en métodos seriales o paralelos, enmascarados o sin máscara / escritura directa, de arriba hacia abajo o de abajo hacia arriba, basados en haz o punta, basados en resistencia o sin resistencia.
La litografía ultravioleta extrema (EUVL) utiliza longitudes de onda ultracortas (13,5 nm) y, a partir de 2015, es la técnica de litografía de próxima generación (LGN) más popularmente considerada para la fabricación en masa.
La litografía de haz de electrones o la litografía de escritura directa con haz de electrones (EBDW) escanea un haz enfocado de electrones en una superficie cubierta con una película sensible a electrones o resiste (por ejemplo, PMMA o HSQ) para dibujar formas personalizadas. Al cambiar la solubilidad de la resistencia y la posterior eliminación selectiva del material por inmersión en un disolvente, se han logrado resoluciones inferiores a 10 nm.
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Otras técnicas:
Autoensamblaje molecular
Litografía de plantilla
Litografía de rayos X
Impresión láser de nanopartículas individuales.
Magnetolitografía (ML) b
Litografía de nanoesferas
Escritura de haz de protones
Litografía de partículas cargadas
Litografía de partículas neutras