En realidad, el silicio se usa más ampliamente que el germanio. Y las razones están a continuación:
- El silicio es el tercer material investigado en el mundo , después del acero y el hormigón. Esto significa que sabemos sobre las cosas de Si que deseamos saber sobre otros materiales.
- El silicio está muy extendido y es barato . No hay escasez de arena todavía ;-).
- El proceso de fabricación de obleas de Si (proceso Czochralski), de 200 y 300 mm, está muy bien establecido, es robusto, tiene un rendimiento muy alto y es económico . Por cierto, hay obleas de 450 mm en el mercado.
Oblea de 200 mm y 450 mm
- Si tiene prioridades térmicas y mecánicas superiores en comparación con los materiales semiconductores disponibles. Esta es la razón principal por la que las obleas de 300 mm y superiores (450 mm) son solo Si .
- El Si intrínseco tiene un intervalo de banda de 1.12 [protegido por correo electrónico] K. Este es un número “bueno”: permite una fácil manipulación hacia sustratos de tipo N y P y una gran cantidad de materiales Gate.
- El 90% de los fabricantes actuales de ULSI usan obleas de Si. Esto significa que el 90% de los métodos de procesamiento son basados en Si / compatibles con Si. Detrás de esos números hay billones de dólares .
- A partir del nodo de 22/16 nm, cuando todas las grandes empresas cambiaron a la tecnología TriGate / FinFET, Si se convirtió en la mejor opción. Esto se debe a los requisitos de la red para la alta relación de aspecto de las aletas y la comparabilidad de los materiales III / V.
- Los salicidas ( siliciotas autoalineados) están disponibles para múltiples metales, incluidos los elementos de tierras raras, lo que permite una excelente compatibilidad de contacto.
Dato curioso # 1 : la capa epitaxial en la parte superior de la oblea de Si de 300 mm es uno de los materiales más puros que los humanos pueden fabricar. Es 99.9999% de Si puro.
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Dato curioso # 2 : por razones 1,2,4,5 Si es también el material principal en paneles solares.